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      鋰電復合銅膜磁控濺射卷繞雙面鍍膜設備
      鋰電復合銅膜磁控濺射卷繞雙面鍍膜設備,用于在柔性基材(PET等)上離子源預清洗,附著層濺射,Cu金屬層濺射,與公司已研發的薄膜電鍍生產線密切對接。
      真空非標PVD和CVD設備
      真空非標PVD和CVD設備,根據用戶工藝要求非標定制各類真空鍍膜設備。
      JCP 磁控鍍膜系列
      JCP 磁控鍍膜系列用于在PET等柔性薄膜基底上沉積Cu、Al、Ti、Wu、Ge等金屬膜。該系列設備最大鍍膜幅寬1560mm,可鍍最大卷徑Φ600mm。
      大型連續鍍膜生產線
      大型連續鍍膜生產線,該鍍膜生產線為臥式結構,可在太陽能硅片、玻璃等表面上鍍制ITO、金屬、非金屬等各種材料。
      真空蒸發連續卷繞鍍膜設備
      真空蒸發連續卷繞鍍膜設備,卷繞速度800m/min,可鍍幅寬1100~2500mm,最大卷繞速度1000m/min。產品系列有電阻蒸發、感應蒸發鍍、硫化鋅介質膜等設備。
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